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二氧化硅做太阳能电池板,二氧化硅晶体被广泛用于制作太阳能电池和光导纤维对吗

来源:整理 时间:2023-07-30 03:23:31 编辑:太阳能 手机版

1,二氧化硅晶体被广泛用于制作太阳能电池和光导纤维对吗

二氧化硅用于光导纤维,硅单质用于电池
是高中生还是.,所以是错的,而题上说是二氧化硅.?是硅广泛用于制作太阳能电池,硅是半导体材料,作为太阳能电池板材料..

二氧化硅晶体被广泛用于制作太阳能电池和光导纤维对吗

2,为什么二氧化硅晶体被广泛用于制作太阳能电池和光导纤维是错的 搜

你是高中生还是....?是硅广泛用于制作太阳能电池,硅是半导体材料,作为太阳能电池板材料,而题上说是二氧化硅,所以是错的,这在高中化学材料题中很常见的,用于光导纤维是对的,因为二氧化硅折射率很大,光在里面传播发生全反射,所以用于光导纤维

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3,太阳能电池板是否由二氧化硅制成

一般光伏发电上用的常规晶体硅电池板 主要由以下几部分组成:钢化玻璃 (主要是二氧化硅),eva ,tpt (可认为是塑料),电池片(纯度较高的工业级硅,一般六个9以上),铝边框。
二氧化硅可以制玻璃。太阳能电池也分好多种,常见的是单晶硅和多晶硅。

太阳能电池板是否由二氧化硅制成

4,太阳能电池板中是否有二氧化硅

一般光伏发电上用的常规晶体硅电池板 主要由以下几部分组成:钢化玻璃 (主要是二氧化硅),EVA ,TPT (可认为是塑料),电池片(纯度较高的工业级硅,一般六个9以上),铝边框。
电池板中的电池片会含有SIo2,但是不会很多,因为对于电池片它不是什么必须的东西,只是生产过程中的中间产物而已。不过以前会用SIO2做钝化用。

5,下列说法正确的是 A二氧化硅是制造太阳能电池板的主要材料B

A.二氧化硅是制造光导纤维的主要材料,硅是制造太阳能电池板的主要材料,故A错误;B.第VIA族元素的氢化物中,水中含有氢键其沸点最高,故B错误;C.同一周期元素,元素的非金属性随着原子序数增大而增强,所以其氢化物的稳定性随着原子序数增大而增强,故C正确;D.常温下,浓硫酸和Cu不反应,加热条件下二者反应,方程式为Cu+2H2SO4(浓) △ . CuSO4+SO2↑+2H2O,故D错误;故选C.
d 试题分析:a、氮是人体中含量较多的元素,不是微量元素,错误;b、硅是太阳能电池的主要材料,错误;c、油脂不属于高分子化合物,错误;d、明矾中的铝离子与水作用能生成氢氧化铝胶体,具有吸附作用,正确,答案选d。

6,怎么制作太阳能电池板

第一步:制作二氧化钛膜 先把二氧化钛粉末放入研钵中与粘合剂进行研磨,接着用玻璃棒缓慢地在导电玻璃上进行涂膜,把二氧化钛膜放入酒精灯下烧结10~15分钟,然后冷却 。 第二步:利用天然燃料为二氧化钛着色 ,把新鲜的或冰冻的黑梅、山梅、石榴籽或红茶,用一大汤匙的税进行挤压,然后把二氧化钛膜放进去进行着色,大约需要5分钟,直到膜层变成深紫色。如果膜层两面着色的不均匀,可以在放进去浸泡5分钟,然后用乙醇冲洗,并用柔软的纸轻轻地擦干 。 第三步:制作反电极 电池需要正电极,当然也需要反电极。正电极和反电极一样,是由涂有导电的SnO2膜层构成的,利用一个简单的万用表就可以判断玻璃的那一面是可以导电的,利用手指也可以做出判断,导电面较为粗糙。把非导电面标上+,然后用铅笔在导电面上均匀地涂上一层石墨。 第四步:加入电解质 利用含碘离子的溶液作为太阳能电池的电解质,它主要用于还原和再生燃料。在二氧化钛膜表面上滴加一到两滴电解质即可。 第五步:组装电池 把着色后的二氧化钛膜面朝上放在桌上,在膜上面滴一到两滴含碘和碘离子的电解质,然后把反电极的导电面朝下压在二氧化钛膜上。把两片玻璃稍微错开,以便利用暴露在外面的部分作为电极的测试用。利用两个夹子把电池夹住,这样,你的太阳能电池就做成了 第六步:电池的测试 在室外太阳光下,可以获得开路电压0.4V,短路电流1mA/cm2的太阳能电池。

7,太阳能电池板的制作流程

切片,清洗,制备绒面,周边刻蚀,去除背面PN+结,制作上下电极,制作减反射膜,烧结,测试分档等10步。太阳能电池具体的制作工艺说明(1) 切片:采用多线切割,将硅棒切割成正方形的硅片。(2) 清洗:用常规的硅片清洗方法清洗,然后用酸(或碱)溶液将硅片表面切割损伤层除去30-50um。(3) 制备绒面:用碱溶液对硅片进行各向异性腐蚀在硅片表面制备绒面。(4) 磷扩散:采用涂布源(或液态源,或固态氮化磷片状源)进行扩散,制成PN+结,结深一般为0.3-0.5um。(5) 周边刻蚀:扩散时在硅片周边表面形成的扩散层,会使电池上下电极短路,用掩蔽湿法腐蚀或等离子干法腐蚀去除周边扩散层。(6) 去除背面PN+结。常用湿法腐蚀或磨片法除去背面PN+结。(7) 制作上下电极:用真空蒸镀、化学镀镍或铝浆印刷烧结等工艺。先制作下电极,然后制作上电极。铝浆印刷是大量采用的工艺方法。(8) 制作减反射膜:为了减少入反射损失,要在硅片表面上覆盖一层减反射膜。制作减反射膜的材料有MgF2 ,SiO2 ,Al2O3 ,SiO ,Si3N4 ,TiO2 ,Ta2O5等。工艺方法可用真空镀膜法、离子镀膜法,溅射法、印刷法、PECVD法或喷涂法等。(9) 烧结:将电池芯片烧结于镍或铜的底板上。(10)测试分档:按规定参数规范,测试分类。 生产电池片的工艺比较复杂,一般要经过硅片检测、表面制绒、扩散制结、去磷硅玻璃、等离子刻蚀、镀减反射膜、丝网印刷、快速烧结和检测分装等主要步骤。
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