多晶硅什么时候，徐州多晶硅是国企吗

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1，徐州多晶硅是国企吗
2，请问多晶硅最直接的用途是做什么主要是什么企业在采购该产品
3，多晶硅用途
4，多晶硅的主要产品

1，徐州多晶硅是国企吗

徐州多晶硅厂是一家有香港、澳门、深圳三家老板合资的企业，全称是“江苏中能硅业科技发展有限公司”，于2006年3月在江苏省徐州市经济开发区成立，“多晶硅”是香港上市公司保利协鑫（HK3800）全资控股的高纯多晶硅生产企业，是目前世界上单体投资规模最大的多晶硅生产基地。已经建成的产能产量位列全国第一、亚洲首位，是全球第三大专业多晶硅生产商，月盈利近30亿元。“多晶硅”除了为光伏产业提供原料，还为航空、电子等高科技产业提供高品质的半导体材料，带动中国光电产业发展壮大，五年内在江苏徐州形成千亿元新能源产业群。顺便问一句，你是不是想进多晶硅，那里的待遇还是很不错的，不过我得实话实说，要进那里面的门槛很高。

徐州多晶硅是国企吗

2，请问多晶硅最直接的用途是做什么主要是什么企业在采购该产品

用电子元件，提纯单晶硅，做太阳能用的硅切片之类的，主要是电子元件，和光伏产业的这些企业在使用

当前，晶体硅材料（包括多晶硅和单晶硅）是最主要的光伏材料，其市场占有率在90％以上,而且在今后相当长的一段时期也依然是太阳能电池的主流材料。多晶硅材料的生产技术长期以来掌握在美、日、德等3个国家7个公司的10家工厂手中，形成技术封锁、市场垄断的状况。多晶硅的需求主要来自于半导体和太阳能电池。按纯度要求不同，分为电子级和太阳能级。其中，用于电子级多晶硅占55％左右，太阳能级多晶硅占45％，随着光伏产业的迅猛发展，太阳能电池对多晶硅需求量的增长速度高于半导体多晶硅的发展，预计到2008年太阳能多晶硅的需求量将超过电子级多晶硅。

请问多晶硅最直接的用途是做什么主要是什么企业在采购该产品

3，多晶硅用途

太阳能电池板的原料、或者电子产品半导体，光伏产业。硅晶圆片是半导体生产的基础材料，单晶硅是制造硅晶圆片的基础材料，多晶硅粗砂是制造单晶硅的基础材料。目前在太阳能利用上，多晶硅发挥着巨大的作用。从目前国际太阳电池的发展过程可以看出其发展趋势为单晶硅、多晶硅、带状硅、薄膜材料（包括微晶硅基薄膜、化合物基薄膜及染料薄膜）。

多晶硅可作拉制单晶硅的原料，多晶硅与单晶硅的差异主要表现在物理性质方面。例如，在力学性质、光学性质和热学性质的各向异性方面，远不如单晶硅明显；在电学性质方面，多晶硅晶体的导电性也远不如单晶硅显著，甚至于几乎没有导电性。在化学活性方面，两者的差异极小。多晶硅和单晶硅可从外观上加以区别，但真正的鉴别须通过分析测定晶体的晶面方向、导电类型和电阻率等。多晶硅是生产单晶硅的直接原料，是当代人工智能、自动控制、信息处理、光电转换等半导体器件的电子信息基础材料。被称为“微电子大厦的基石”。

多晶硅用途

4，多晶硅的主要产品

多晶硅太阳能充电器是将光能转换成电能的光电转换设备.太阳能充电器的原理是：通过光电转换板将光能转换成电能并储藏在内置的容量为2600mAH的锂电池里，然后再通过控制电路将内置锂电池的电能经过输出接口给手机，数码相机,MP3,MP4等产品充电.在长期无阳光照射的环境下，也可以通过市电（AC100V-240V）给内置的锂电池充电，适用于出差，旅游，长途乘车船，野外作业等环境的备用电源.技术参数太阳能功率: 0.7W（多晶硅）市电输入： AC100V--240V输出电压： DC5V或DC6V（可选）最大输出电流： DC300-500mA内置锂电池： 2600mAH产品重量： 110克产品尺寸： 120X73X10mm产品颜色：红蓝银黑金5种可选使用说明为内置锂电充电：采用市电（交流100V--240V）给内置锂电池充电时，指示灯显示为绿红，约6-7个小时左右可以充满，指示灯熄灭表示电池已充满.将太阳能充电器放置于阳光下就可以给内部自带的电池充电了.红灯亮表示正在充电，在阳光下约几小时可以充满.因阳光强弱而异.为产品充电的使用方法：内置锂电池充满后，就可以给手机，数码相机，MP3,MP4等数码产品充电了. 用充电连线将太阳能充电器与手机或数码相机MP3,MP4等数码产品连接好就可以充电了.充电时，指示灯显示绿色，表明充电正常.产品包装及附件.中性彩盒包装.内装太阳能充电器1个，电源适配器1条，充电输出线1条，转换头5个.中英文说明书一页.注意事项内部设有保护电路，当出现过载，短路时保护电路动作，输出就没有电压了，解除保护的方法有二： 1，用市电AC100-240V充电数秒；2 在阳光下晒一下.这样就可以恢复输出了.污垢影响1、油脂：在多晶硅生产过程中，油分子对多晶硅的危害十分严重。实际证明，整个工艺系统几ppm的油含量就可能造成多晶硅反应速度减慢，产量降低，甚至硅反应停止。因此，多晶硅设备的脱脂工艺尤为重要。2、水分：水中含有大量的氯离子，氯离子对多晶硅的反应十分敏感。设备及系统干燥工艺很关键。3、氯离子残留：水和其他溶液在设备表面残留的氯离子对多晶硅影响十分大。因此，在清洗后对设备进行纯水冲洗工艺十分重要。4、氧化物、灰尘其他杂质：其他污垢的存在，对多晶硅的生产影响也很大。因此，在设备清洗过程中，采用酸洗工艺对其他污垢进行清洗十分必要。

低温多晶硅是多晶硅技术的一个分支，与传统的高温多晶硅相比，低温多晶硅也需要激光照射，但它采用的是准分子激光作为热源，激光经过透射系统后，会产生能量均匀分布的激光束并被投射于非晶硅结构的玻璃基板上，当非晶硅结构的玻璃基板吸收准分子激光的能量后，就会转变成为多晶硅结构。由于整个处理过程是在摄氏500-600度以下完成，所以称作低温多晶硅。